波长为193nm（纳米）、远隔率≤65nm、套刻≤8nm……日前，工信部的一份文献，再次把国产光刻机推入公众视线，以致传放洋产DUV光刻机防碍8nm工艺的“重磅音书”。 9月9日，工信部旗下微信公众号“工信微报”推送了工信部于9月2日签发的对于印发《首台（套）首要期间装备引申哄骗率领目次（2024年版）》的见告文献，见告文献中的“电子专用装备”的第一项即“集成电路坐褥装备”，明确提到氟化氪（KrF）光刻机和氟化氩（ArF）光刻机的期间缠绵，尤其是氟化氩光刻机，文献表明其套刻精度≤8nm。 《中